Thesis

98 級 何惠雯 學士論文 : 準分子雷射鍍製碳膜

發佈日期:2013/01/03
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摘要

 

碳膜主要是由元素碳所構成之薄膜鍍層,包括化學氣相沈積鑽石膜、石墨膜、無定形碳
膜(類鑽碳膜)、及電漿高分子膜等。碳膜具有獨特且可調整之各種特性組合,包括高硬度及高
耐磨耗性、化學鈍性、及磨潤特性等。然而其其缺點是成膜製程通常須在真空系統進行,本研
究則於大氣環境及室溫下利用脈衝式雷射鍍製碳膜。
本研究使用ArF 準分子雷射(波長193 nm)照射於浸泡在環己烷之單晶矽表面以鍍製碳
膜。鍍膜以原子力顯微鏡觀察其表面形貌,其平均粗糙度(Ra)約0.275 nm。碳膜經拉曼光譜儀
(激發雷射波長532 nm)分析其結構特徵,除G band 外,可發現β-SiC 拉曼譜峰。
 
關鍵詞:準分子雷射、環己烷、拉曼光譜、原子力顯微鏡




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